屏蔽系统的结构、作用、要求是什么？

   (1)真空灭弧室的屏蔽系统有多种结构形式，但都由屏蔽筒、屏蔽罩和其他零件组成，只是屏蔽筒的支撑方式不同。屏蔽筒的支撑方式有触头固定式、中间封接式和瓷柱支撑式。

   1)触头固定式。金属屏蔽简直接固定在一个触头上，与该触头处于同电位。

   2)中间封接式。屏蔽筒与两个触头分开，使其处于悬浮电位。

   3)瓷柱支撑式。用瓷柱支撑屏蔽筒，与两个电极分开，使其处于悬浮电位。

   (2)屏蔽系统的作用：

   1)防止触头在燃弧过程中产生的金属蒸汽和液滴喷溅，污染绝缘外壳的内壁，造成真空灭弧室外壳的绝缘强度下降或产生闪络。

   2)改善真空灭弧室内部的电场分布，有利于绝缘外壳的小型化，尤其是对高电压真空灭弧室的小型化有显著效果。

   3)真空灭弧室开断电流时，可吸收一部分电弧能量，冷凝电弧生成物，使灭弧室内残余的金属蒸气及所带质点迅速衰减，有助于灭弧和恢复触头间的介质强度。

   4)对于较大间隙的高电压大容量真空灭弧室，可使屏蔽筒与两个触头之间的电位呈现某种不均匀的分布，改善触头间介质强度的作用，使击穿电压与触头开距近似呈线性关系。

   (3)对屏蔽系统的要求：屏蔽系统除了设置屏蔽筒外，为了改善更高电压触头之间承受更高的耐压能力，要设置均压屏蔽罩；为了保护波纹管不受电弧的伤害，也要设置波纹管屏蔽罩。屏蔽罩一般是用厚度为0. 5～1. 0mm的铜或不锈钢制造。